Halbleiterbasierte Technologien, Technology From CMOS to Smart Systems

Erfolgreicher Abschluss des Projektes CoLiSA.MMP

31.8.2017

Simulationsbeispiel (Phasenseparation) aus dem Projekt CoLiSA.MMP (Lithographiesimulation für gerichtete Selbstorganisation: Materialien, Modelle und Prozesse - engl. »Computational Lithography for Directed Self-Assembly: Materials, Models and Processes«), das im Januar seinen erfolgreichen Abschluss fand.

Die Forscher im EU-Forschungsprojekt »CoLiSA.MMP« entwickelten Rechenverfahren und eine Software, die die Beantwortung aktueller Fragestellungen der Prozess- und Materialentwicklung für zukünftige Verfahren zur Herstellung von integrierten Schaltungen erlauben. Die neu entwickelten, anhand experimenteller Daten kalibrierten und durch den Vergleich mit Experimenten verifizierten Modelle integrierten sie in den IISBLithographiesimulator Dr.LiTHO. In dem vom Fraunhofer IISB koordinierten Projekt arbeiteten Wissenschaftler mit den Spezialgebieten Physik der weichen Materie, Blockcopolymerchemie sowie lithographische Prozessierung und Lithographiesimulation eng zusammen.